永光為光電產業解決紫外線干擾的設計

光學膜和光電產業用薄膜等的設計上，紫外線的遮蔽常常是設計上的一個重要考量因子，特別是380nm以下的UV cut。另外，市場上經常使用PET膜在表面進行塗膜處理，來達成某些光學機構設計的要求，而這些塗膜處理不管是光固化或是熱固化處理，液體產品永遠是最佳的選擇。

為了符合上述二種需求，永光推出一支全新的液態化紫外線吸收劑 Eversorb 109 與一般常用於塑膠的 EVERSORB 71 來比較，以甲苯溶250 ppm Ev.109 / Ev.71 在 1cm 厚的石英cell，Eversorb 109 可以達到很好的380nm UV cut效果。這對於元件的設計開發上，使用 EVERSORB 109 可以達到一個低劑量高遮蔽率的要求，有效解決添加過多紫外線吸收劑所可能造成析出的問題的困擾。

• At 400nm, the transmission: Ev.109-64% / Ev.71- 96%
• At 380nm, the transmission: Ev.109-0.6% / Ev.71-16%

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